光学システムは透過測定システムと反射測定システムからお選びいただけます。構成例に示す集光光学系以外の平行光光学系などのシステムもございます。

透過測定システム 　透過測定用のシステムを提供します。光学系は、RTDマウント・コリメーションレンズ・集光レンズから構成されます。制御系は、信号取得デバイス(電源付属)と信号取得ソフトウェアから構成されます。 構成例:透過集光光学系システム

反射測定システム 　反射測定用のシステムを提供します。光学系は、RTDマウント・コリメーションレンズ・集光レンズ・ビームスプリッターから構成されます。楕円型ペリクルビームスプリッターの採用によりシステムのサイズを抑えた構成です。制御系は、信号取得デバイス(電源付属)と信号取得ソフトウェアから構成されます。 構成例:反射集光光学系システム

　透過測定システムと反射測定システムの各構成品を、60mmケージシステムモジュールにマウントしたユニット単位で提供します。

　RTDマウントユニット

Φ25.4mmの汎用光学マウントに取り付け可能な専用のマウントです。RTDデバイスに過度な力が加わることを防ぐ保持方法を採用しているため、破損を防ぐことができます。

光学マウントへの 取付例

　コリメーションレンズユニット

HDPE製の非球面レンズを60mmケージシステムマウントに取り付けたユニットです。放射角の大きなRTDで使用可能な大口径で高NAのレンズを提供します。レンズは下表の2種類からお選びいただけます。レンズ単品でのご購入も可能です。

表: コリメートレンズの仕様.

	有効焦点距離 [mm]	外径 [mm]	有効径 [mm]	厚さ [mm]
標準タイプ	35.1	Φ38.1	Φ34.1	12.0
オプション	45.7	Φ50.8	Φ46.8	16.0

ビームプロファイル

　標準タイプのコリメーションレンズを使用した場合の平行(コリメーション)光ビームプロファイルを測定した例です。検出器（Rx）を平面的(X-Y面)に走査し、光源（Tx）から放射されるテラヘルツ波強度を測定しました。

ビームプロファイル測定光学レイアウト

ビームプロファイルの測定結果

　集光レンズユニット

HDPE製の非球面レンズを位置調整機構付き60mmケージシステムマウントに取り付けたユニットです。放射角の大きなRTDで使用可能な大口径で高NAのレンズを提供します。レンズ単品でのご購入も可能です。ご希望の仕様のレンズも設計・製作します。

表: 集光レンズの仕様.

	有効焦点距離 [mm]	外径 [mm]	有効径 [mm]	厚さ [mm]
タイプA	35.1	Φ38.1	Φ34.1	12.0
タイプC	45.7	Φ50.8	Φ46.8	16.0

　ビームスプリッターユニット

楕円型ペリクルビームスプリッターをあおり調整機構付き60mmケージシステムマウントに取り付けたユニットです。薄膜型のビームスプリッターを採用しているため、多重反射による干渉の影響を受けません。

　信号取得ソフトウェア

構築したシステムでの信号検出を容易にするソフトウェアです。RTDバイアス電圧や信号取得サンプリングレートなどを初期設定ファイルより設定できます。取得時間波形や周波数分布の確認が容易に行えます。イメージングソフトウェアへの拡張が可能です。

機能

　 RTDデバイスTxのON/OFF制御
　 RTDデバイスRxからの信号取得
　 FTT処理による周波数分布の算出
　 取得時間波形と周波数分布の表示

使用環境

　 OS: Windows10 または Windows11
　 CPU: Intel core^TM i5以上
　 実装メモリ: 16.0GB
　 ディスプレイサイズ: 1920(W) × 1200(H)

保存データ

　 時間波形テキストデータ
　 周波数分布テキストデータ

　画像測定(イメージング)機能を追加するための走査型イメージングキットを提供します。透過測定システムや反射測定システムへ容易に組込み可能なイメージングキットです。二軸の自動ステージとステージコントローラを組み合わせたイメージングユニットと、そのユニットを制御しながら信号取得を行うイメージングソフトウェアから構成されます。

反射イメージングシステム：ヘッド垂直面走査
(イメージングキットと反射測定システムを組みわせた構成)
　標準品仕様

ユニット名	説明	納入個数
直交2軸電動ステージ (ベースプレート付き)	水平スキャン電動ステージと垂直スキャン電動ステージが直交2軸に配置されたユニット 光学定盤に取り付けるためのベースプレート付き スキャンエリア85mm x 85mm ステージ型式: OSMS20-85(X), OSMS20-85(Z) (シグマ光機株式会社製)	1式
ステージ制御ケーブル	電動ステージとステージコントローラをつなぐ専用ケーブル	2本
ステージコントローラ	電動ステージを制御するコントローラ ステージコントローラ制御ケーブルを介して制御用PC(ご準備ください)と接続して制御	1台
ステージコントローラ 制御ケーブル	ステージコントローラと制御用PCをつなぐケーブル 汎用USBケーブル (Type-A － Type-B)	1本
サンプル位置調整用 手動ステージ	テラヘルツ波集光点にサンプル位置を合わせるための手動ステージ 調整範囲±6.5mm	1個
簡易サンプルマウント	サンプルを簡易的にマウントするユニット マウント型式：シグマ光機株式会社製KMH-80	1式
イメージング ソフトウェア	電動ステージの制御を行うソフトウェア 透過測定・反射測定システムの信号取得ソフトウェアをイメージング用に拡張したもの	1個

　レイアウト例

透過イメージングシステム サンプル垂直面走査	反射イメージングシステム サンプル垂直面走査
サンプルを垂直面スキャンすることにより 透過強度を測定します。	サンプルを垂直面スキャンすることにより 反射強度を測定します。

反射イメージングシステム ヘッド水平面走査	反射イメージングシステム ヘッド垂直面走査
測定ヘッドを水平面スキャンすることにより 反射強度を測定します。	測定ヘッドを垂直面スキャンすることにより 反射強度を測定します。

　イメージングソフトウェア

イメージングユニットと組み合わせて構築したイメージングシステムを制御するソフトウェアです。信号取得ソフトウェアを拡張したソフトウェアであり、信号取得とイメージングのどちらも行うことができます。テージ動作と同期した信号取得を行い、信号強度のマップを作成します。 機能 　 イメージングエリアの設定 　 マップ作成方法の選択(信号強度値抽出方法、強度値平均回数の設定など) 　 イメージング動作制御 使用環境 　 OS: Windows10 または Windows11 　 CPU: Intel coreTM i5以上 　 実装メモリ: 16.0GB 　 ディスプレイサイズ: 1920(W) × 1200(H) 保存データ 　 時間波形テキストデータ 　 周波数分布テキストデータ 　 強度マップ画像 　 強度マップテキストデータ

　樹脂内の気泡

内部に気泡(ボイド)のある不透明樹脂板を反射イメージングシステムで測定した例です。内部の気泡が可視化されます。 測定条件 　 スキャンエリア：樹脂板中央の50mm × 10mm 　 スキャンピッチ：0.25mm × 0.25mm

内部に気泡のある不透明樹脂板	測定結果

梅津枝里子 他, “共鳴トンネルダイオードを使用した小型イメージングシステム”, 第86回応用物理学会秋季学術講演会, 7p-N321-11, (2025).

　抵抗率の異なるシリコンウエハ

　抵抗率の異なるシリコンウエハを反射型イメージングシステムで測定した例です。抵抗率と相関のある反射率が測定されます。

測定条件

　 スキャンエリア：40mm × 40mm
　 スキャンピッチ：1mm × 1mm

シリコンウエハ外観	抵抗率：低	抵抗率：高

梅津枝里子 他, ”共鳴トンネルダイオードを使用した小型イメージングシステムによるシリコンウエハの評価方法の検証”, 第73回応用物理学会春季学術講演会, 16p-WL2_301-4, (2025).

サンプルの特徴に適した測定システムを構築したいなどの要望に応じて、特注システム・レンズの設計・製作にも対応します。 測定した信号の解析や所有のステージとコントローラを組み合わせた信号取得やイメージングなどのソフトウェアも作成します。